Hoppschwiiz schreef op 2 maart 2023 22:00:
[...]
Mijn quote was wat kort door de bocht. AM heeft blijkbaar een machine ontwikkeld die complementair is aan de EUV machine. De technische voordelen begrijp ik dan weer niet:
“Applied Materials unveiled a new technology to complement ASML's EUV equipment, helping chipmakers remove the need for multiple patterning and creating economic and environmental benefits.”